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真空磁控濺射鍍膜的原理以及優缺點

來源:長辰實業  日期:2019-07-05

真空鍍膜工藝分為多種,包括有真空磁控濺射鍍膜,蒸發鍍以及光學離子鍍。現在主要來講講磁控濺射鍍膜的原理以及優缺點是什么,讓大家對這個電鍍工藝有所了解,對產品電鍍的選用工藝有所幫助。


真空磁控濺射鍍膜


首先,真空磁控濺射鍍膜通常應用在金屬產品上面,原理為在電場作用下,電子與氬原子產生碰撞,從而電力出大量氬離子和電子,氬離子加速轟擊靶材,靶原子沉積基片表面而成膜。靶材的材質主要有金屬靶材,金屬氧化物靶材等等。


每種工藝都有優缺點,真空磁控濺射鍍膜的優點就是,它電鍍的膜層純度高,附著力好,而且膜厚均勻,這樣的工藝重復性比較好。缺點當然也得注重,由于設備結構的復雜,如果濺射靶材被穿透,就會使整塊靶材報廢,所以靶材利用率低下就是缺點。

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